本州化学工業

本州化学工業の事業内容は、「高機能樹脂原料」「高機能化学品」及び「その他化成品」の各事業からなり、それぞれの主要製品は、次のとおりです。

事業部門		主要製品		主な用途

高機能樹脂原料

ビフェノール

液晶ポリマー（LCP）の原料、合成樹脂改質材

特殊ビスフェノール

　ビスフェノールC
　ビスフェノールE
　ビスフェノールF

　ビスフェノールZ
　TrisP-PA
　BisP-AP
　BisP-TMC

特殊ポリカーボネート樹脂、特殊エポキシ樹脂の原料

高機能化学品

TrisP-PA-MF

フォトレジスト材料

2.5キシレノール

フォトレジスト材料

　医薬品等の原料

2.3.5トリメチルフェノール

フォトレジスト材料

2.3.6トリメチルフェノール

ビタミンEの原料

メタクレゾール

農薬、医薬品、香料、電子材料等の原料

H-BHT

酸化防止剤

3M6B

酸化防止剤、香料等の原料

4M2B

酸化防止剤、紫外線吸収剤の原料

その他化成品

フェノール

合成樹脂、医薬品、染料、農薬、ゴム薬品の原料

これらの製品のうち、

　 1. 成長する市場がある。
　 2. 独自技術が活用できる。
　 3. 世界において高いマーケットシェアを有している。

以上の3つの条件を満たす製品をコア事業としており、現在「ビフェノール」「特殊ビスフェノール」「フォトレジスト材料（TrisP-PA-MF等）」「ビタミンE原料(2.3.6トリメチルフェノール)」「ビスフェノールF」の各製品があります。またコア事業として育成中の「感光性ポリイミド材料」などの製品があります。コア事業の主要製品の概要は次のとおりです。

ビフェノールは、主にパソコンや携帯電話等のコネクターなど耐熱性を必要とする部品に使用されている液晶ポリマー（LCP）の主要原料であり、情報通信・電子関連産業には欠かすことのできない製品です。
当社は、世界市場においてトップシェアを有しており、ビフェノールメーカーとしての確固たる地位を築いております。

特殊ビスフェノールは、パソコンや携帯電話等の情報・通信関連部品などに用いられる特殊ポリカーボネート樹脂や特殊エポキシ樹脂の原料として、使用されております。

● ビスフェノールC (Bis-C)
● ビスフェノールZ (Bis-Z)
● ビスフェノールP-AP
　 (BisP-AP)

これらの製品は、耐磨耗性、電気特性、耐熱性等の特性を活かし、OPC（有機光導電性）、光ディスク、レンズなどの高機能製品に用いられる特殊ポリカーボネート樹脂の原料として、使用されております。

● TrisP-PA
● ビスフェノールE (Bis-E)
● ビスフェノールF (Bis-F)

これらの製品は、耐熱性、電気特性、弾性等の特性を活かし、積層板、封止剤などの高機能製品に用いられる特殊エポキシ樹脂の原料として、使用されております。

ビスフェノールＦは、特殊エポキシ樹脂として加工性や金属接着性に優れており、難燃性積層板用途として薄型テレビや携帯電話などの分野において、また、粉体塗料用として耐震性水道管内面コーティング材料として使用されています。

ビスフェノールＦ製造設備
（生産能力 4000ｔ/年）

フォトレジストとは、光や放射線によって物性が変化する感光性樹脂であり、ICやLSIなど半導体の製造工程で使用され、情報通信・電子関連産業には欠かすことのできない製品です。
当社は、フォトレジストの材料となる各種製品を製造販売しており、その主要製品は、次のとおりです。

フォトレジストを用いて形成されたパターン

● TrisP-PA-MF

TrisP-PA-MFは、半導体の製造時に使用されるフォトレジストの主要材料のひとつであり、感光剤材料、増感剤として優れた機能を発揮するため、幅広く使用されております。

● 2.3.5トリメチルフェノール

2.3.5トリメチルフェノールは、半導体の製造時に使用されるフォトレジストの主要材料のひとつであり、ベースレジンに使用されるモノマーのひとつとして、微細パターン形成に優れた機能を発揮します。

2.3.6トリメチルフェノールは、抗酸化作用をもつビタミンEの原料となり、主に家畜用飼料の添加剤に使用されています。

酸化防止剤として、潤滑油、ゴム、合成樹脂分野を中心に世界各国で使用されております。また、新規分野としてバイオディーゼル燃料用途などに需要があります。

H-BHT製造設備