沿革
- 1914（大正3年）11月
- 創業者の由良浅次郎らが由良精工合資会社を設立
日本で最初にベンゼン精留装置を建設し、アニリンの工業化に成功する - 1915（大正4年）1月
- 小雑賀工場（現 和歌山工場）を建設
- 1915（大正4年）2月
- 合成フェノールの製造を開始
（創業当時の従業員） - 1942（昭和17年）9月
- 本店を東京市日本橋区に移転 （※現在の東京都中央区）
- 1948（昭和23年）9月
- 京都研究所を設立
（京都研究所 正門と研究風景） - 1952（昭和27年）10月
- 共和電化工業（旧・由良化学工業）株式会社と合併し由良精工株式会社を設立
- 1953（昭和28年）6月
- 東京地方裁判所に会社更生法を申請
- 1953（昭和28年）7月
- 会社更生手続き開始 管財人に長澤一夫、管財人代理に大野俊雄が選任される
- 1953（昭和28年）
- 第一通商（現・三井物産株式会社）が資本参加
- 1953（昭和28年）12月
- 由良浅次郎が代表取締役社長を退任 管財人に長澤一夫、管財人代理に大野俊雄、代表取締役に財津 武、取締役に浦田文二郎および由良章三、監査役に河本喜与之を選任する
- 1954（昭和29年）3月
- ジフェニルアミンの製造を開始
- 1954（昭和29年）7月
- 会社更生計画案が決定
- 1955（昭和30年）10月
- 社名を本州化学工業株式会社に変更
初代社長に長澤一夫が就任 - 1956（昭和31年）3月
- 会社更生手続き終結が決定
- 1956（昭和31年）5月
- 第2代社長に浦田文二郎が就任
- 1958（昭和33年）1月
- 西ドイツ（現・ドイツ）のヒュルス社とベンゼン水添法シクロヘキサノン製造技術で提携
（和歌山工場におけるガイスター博士と由良章三（写真右）） - 1960（昭和35年）7月
- 増資（増資後の資本金275百万円）
- 1960（昭和35年）10月
- シクロヘキサノンの製造を開始
- 1961（昭和36年）3月
- ビスフェノールＡの製造を開始
- 1961（昭和36年）12月
- 東京証券取引所市場第二部に上場
増資（増資後の資本金450百万円） - 1964（昭和39年）3月
- 創業者 由良浅次郎が死去
- 1969（昭和44年）4月
- ハイメタクレゾール酸、粗BHTの製造を開始
- 1970（昭和45年）7月
- OSBPの製造を開始
- 1971（昭和46年）1月
- トリメチルフェノールの製造を開始
- 1973（昭和48年）2月
- 第3代社長に安西一二が就任 （浦田社長が相談役、会長に就任）
- 1977（昭和52年）3月
- 第4代社長に太田正雄が就任
- 1977（昭和52年）11月
- 増資（増資後の資本金500百万円）
- 1979（昭和54年）3月
- 第5代社長に浦田文二郎が就任（会長から復帰）
- 1980（昭和55年）3月
- 第6代社長に八木澤久男が就任
- 1984（昭和59年）3月
- 第7代社長に末弘賀壽彦が就任
- 1984（昭和59年）10月
- 京都研究所と和歌山工場研究部門を統合し、総合研究所を設立
- 1984（昭和59年）10月
- 第8代社長に八木澤久男が就任（末弘社長の死去により）
- 1985（昭和60年）6月
- 多目的開発プラント新設
- 1986（昭和61年）3月
- 第9代社長に鈴木千太郎が就任
- 1988（昭和63年）3月
- 第10代社長に藤木俊一が就任
- 1988（昭和63年）4月
- ビスフェノールA事業を三井石油化学工業株式会社（現・三井化学株式会社）に譲渡
- 1990（平成2年）6月
- フォトレジスト材料の生産を開始
- 1991（平成3年）1月
- 特殊ビスフェノールズプラント新設
- 1991（平成3年）3月
- ビフェノール及び各種ビフェノール類の製造を開始
- 1993（平成5年）1月
- メタルフリープラント新設
- 1993（平成5年）6月
- 第11代社長に水ノ上嘉孝が就任
- 1993（平成5年）11月
- 和歌山工場 ISO9002 認証取得
- 1995（平成7年）10月
- ビフェノール専用プラント稼動開始
- 1997（平成9年）3月
- 増資（増資後の資本金15億50万円）
- 1999（平成11年）4月
- 和歌山工場 ISO14001認証取得
- 1999（平成11年）6月
- 第12代社長に戸川 晋が就任
- 2001（平成13年）11月
- 特殊ビスフェノール事業のドイツでの企業化を目的として、バイエル社及び三井物産株式会社と共同で合弁会社 Hi-Bis GmbH (ハイビス社) を設立
- 2002（平成14年）3月
- ビフェノール第2プラント新設
- 2003（平成15年）4月
- Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント（ドイツ）建設着工
- 2003（平成15年）6月
- 第13代社長に竹野壽彦が就任
- 2004（平成16年）12月
- Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 営業開始
- 2005（平成17年）6月
- 第14代社長に武田靖弘が就任
- 2007（平成19年）6月
- 大阪支店廃止
- 2008（平成20年）2月
- ビスフェノールFプラント増設
- 2009（平成21年）1月
- 精製BHT（酸化防止剤）プラント新設・製造開始
- 2009（平成21年）6月
- 第15代社長に佐野景一が就任
- 2009（平成21年）9月
- 日本最初のベンゼン精留装置が経済産業省より「近代化産業遺産」に認定される
（わが国初のベンゼン精留装置と近代化産業遺産認定書） - 2011（平成23年）6月
- 第16代社長に船越良幸が就任
- 2014（平成26年）9月
- Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント増設
- 2014（平成26年）11月
- 当社創業100周年
- 2015（平成27年）6月
- 第17代社長に生坂敏行が就任
- 2017（平成29年）6月
- 第18代社長に福山裕二が就任
本州化学工業株式会社 創業100周年 ビデオ